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SK海力士加快超300层V10NAND闪存的研发进程,计划2027年实现量产

作者:admin   日期:2026-01-19

12月9日消息,Trendforce报道称,SK海力士已确认计划在2027年初实现第十代V10 NAND闪存的量产,该产品的核心技术突破点在于首次运用了300层以上的堆叠架构,并且集成了混合键合技术(Hybrid Bonding)。

这项技术的实现方式是,先分别制造存储阵列晶圆和外围电路晶圆,之后再对二者进行垂直键合,以此构成一个单一的高性能单元。通过这种方式,产品良率、数据传输效率以及生产效益都得到了显著的提升。

此举打破了行业对技术路线的原有预期——在此之前,业界大多认为混合键合技术要到芯片堆叠达到400层的阶段才会投入使用。

SK海力士决定在300层节点阶段提前推进商业化落地,目的是加快巩固存储技术的领先地位,以满足AI和数据中心市场对高密度闪存日益迫切的需求。

同步披露的产能情况显示,在企业级固态硬盘(eSSD)需求大幅增长的推动下,其第九代NAND闪存生产线已接近满负荷运转。SK海力士正主动加大现有产品的供应力度,以支撑下一代技术量产前的市场过渡阶段。

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